پرشین فایل | مرجع دانلود فایل
توضیحات
فرایند سل-ژل (به انگلیسی: Sol-gel) که همچنین با نام رسوبدهی محلول شیمیایی (به انگلیسی: Chemical Solution Deposition) از آن یاد میشود، یک روش شیمی تر است که درمهندسی و علم مواد و مهندسی سرامیک بهطور گسترده استفاده میشود. این روش معمولاً برای تولید مواد (به عنوان مثال اکسید فلزات) با شروع از یک محلول کلوئیدی (سل) که به عنوان پیشماده برای یک شبکه بههمپیوسته (ژل) از ذرات گسسته یا پلیمرهای شبکهای است، بکار میرود. پیشمادههای معمول شامل آلکوکسید و نمک فلزات (از قبیل کلریدها، نیتریدها و استات ها) هستند که تحت واکنشهای مختلف هیدرولیز و بسپارش مرحلهای قرار میگیرند.
کاشت یون (به انگلیسی: ion implantation) فرایندی در مهندسی مواد است که در آن یونهای برخی مواد را میتوان در مادهای دیگر کاشت و ویژگیهای فیزیکی آن ماده را تغییر داد. این فرایند در ساخت نیمهرساناها و پرداخت فازها کاربرد دارد.
برای کاشت یون، نیاز به یک منبع یون است که با به بکاربردن شتابدهنده ذرهای یونها را میتوان با سرعت زیاد روی سطح مورد نیاز کاشت. هر یون یک اتم یا مولکول است بنابراین مقدار یون انباشت شده روی سطح برابر با انتگرال جریان بر حسب زمان خواهد بود و به این مقدار دز گفته میشود. از آنجاکه در کاشت یون جریان در حد میلیآمپر است، دز یون کاشتهشده مقدار کمیست.
انرژی یونهای تابشی پیرامون ۱۰ تا ۵۰۰ کیلو الکترونولت است. انرژی یون، مادهٔ یون و سطح تعیینگر میزان عمق نفوذ یون روی سطحاند و بین ۱۰ نانومتر تا ۱ میکرومتر است.
فهرست مطالب:
چكيده
روش هاي مختلف پوشش دهي
روش پاشش حرارتی
روش رسوب دهي شيميايي بخار
لايه نشاني الكتروليتي كاتد
روش نيتروراسيون
روش سل- ژل
انواع ژلها
انواع فرآيند سل ژل
مزايا و معايب روش سل- ژل
پلاسما اسپري
نيتروژن دهي پلاسمايي توري فعال
نتايج
- لینک دانلود فایل بلافاصله بعد از پرداخت وجه به نمایش در خواهد آمد.
- همچنین لینک دانلود به ایمیل شما ارسال خواهد شد به همین دلیل ایمیل خود را به دقت وارد نمایید.
- ممکن است ایمیل ارسالی به پوشه اسپم یا Bulk ایمیل شما ارسال شده باشد.
- در صورتی که به هر دلیلی موفق به دانلود فایل مورد نظر نشدید با ما تماس بگیرید.
پاورپوینت کامل و جامع با عنوان خازن ها و دی الکتریک ها در 39 اسلاید 
هنوز هیچ نقد و بررسی وجود ندارد.